Алексей Васильевич Волков - Аппаратные средства микро- и нанотехнологий: электрон. научно-образоват. модуль в системе дистанц. обучения MOODLE

первой ЭУФ-устаяовки проведена
в 2001 г. консорциумом по нанесению рисунков на чипы. Установка
позволяла получить a min ~ 80 нм. Компании Intel, Advanced Micro Devices и
другие вложили 250 млн долларов в создание прототипа ЭУФ- установки.
Чтобы

довести

ЭУФ-установку

до

промышленного

производства,

потребовалось еще 2,5 млрд долларов.
В настоящее время достигнуто разрешение -30 нм. Ожидается, что к 20142016 гг. промышленные ЭУФ-нанолитографы дадут разрешение -20 нм, а в
последующие годы — до 10 нм.
Таким образом, фотолитография еще не исчерпала своих возможностей.
Объем рынка электроники, основанной на кремнии, составляет несколько
триллионов долларов в год. Поэтому, по крайней мере в ближайшее
десятилетие, полупроводниковая промышленность будет продолжать идти по
пути усовершенствования высокоэффективной фотолитографии.

--">